低温等离子处理设备一般可分为真空低温等离子处理设备和常压低温等离子处理设备两大类。
一、真空低温等离子体处理设备
真空低温等离子体处理设备是一种在低气压工作环境下,根据所需处理工件的处理目的不同,可通入各种与工件表面发生反应的化学元素气氛,并馈入不同频率、不同功率的电压使这些气氛被激发电离,这些被电离的、带有很高能量的电子和粒子对工件表面进行反应,达到对工件表面清洗、活化、刻蚀和沉积的作用,这些带正负粒子的离子化气体由于其正负电荷总量平衡,所以总体上呈电中性,由这种等离子体与工件表面反应后所产生的、漂浮在腔体内的新的粒子将被为维持腔体内真空度而不断运转的真空泵抽出真空腔体,也即:低温等离子体处理过程中产生的微观污染物会被真空泵不断抽出腔体。
真空
低温等离子处理设备的特点:
1、高能量的低温等离子体处理。
2、电中性、无静电的处理空间。
3、根据不同的气氛组合,可实现多样化的工艺效果。
4、对工件结构无特殊要求,能做到全方位3D处理。
5、清洗功能可真正实现无残留,彻底超净化。
二、常压低温等离子体处理设备
常压低温等离子体处理设备是一种在常压大气工作环境下,产生各种等离子焰体的设备。阿尔铭晟用国外最先进的技术,根据各个行业的不同用途、不同处理材料和工件外形,开发设计制造了诸如:射流低温等离子体处理设备、DBD介质阻挡放电等离子处理设备、滑动电弧低温等离子体处理设备等等,以适应各种不同的工艺需求,详见阿尔铭晟网站中的“产品展示”栏所示。
常压低温等离子处理设备的特点:
1、去除了复杂的真空系统,价格较低,使用灵活,作业便捷。
2、适用于在线式生产现场,便于实现自动化作业,容易与客户原有的自动化流水线配套。
3、具表面清洗、活化、粗化功能,不适合需要做沉积、接枝的表面处理。
4、维护简单,方便。