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等离子处理设备去除金属氧化物原理
发布时间:2017-12-12  浏览:
等离子清洗机去除金属氧化物
化学清洗:表面反应以化学反应为主的等离子体清洗,又称PE。
例:O2+e-→ 2O※ +e-     O※+有机物→CO2+H2O
从反应式可见,氧等离子体通过化学反应可使非挥发性有机物变成易挥发的H2O和CO2。
例:H2+e-→2H※+e-      H※+非挥发性金属氧化物→金属+H2O
从反应式可见,氢等离子体通过化学反应可以去除金属表面氧化层,清洁金属表面。
物理清洗:表面反应以物理反应为主的等离子体清洗,也叫溅射腐蚀(SPE)。
例:Ar+e-→Ar++2e-       Ar++沾污→挥发性沾污
Ar+在自偏压或外加偏压作用下被加速产生动能,然后轰击被清洗工件表面,一般用于去除氧化物、环氧树脂溢出或是微颗粒污染物,同时进行表面能活化。

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